旋转铜靶 Rotatable Cu target
应用: 制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜等,TFT, Low-E 镀膜,半导体电子
产品化学成分和物理性能:
化学式:Cu
成型工艺:喷涂
密度: >8.4/cm3
纯度: > 99.5%
最大杂质含量 (单位: ppm, 总杂质含量≤ 5000ppm)
最大加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-13MM
直型、狗骨型
按客户要求定做
旋转铜靶 PCB板镀膜靶材 平面铜靶 铜管靶 高纯铜靶
发布日期 :2024-02-05 09:49访问:1次发布IP:113.119.122.112编号:4480695
详细介绍 旋转铜靶 Rotatable Cu target
应用: 制作纯铜膜,用于装饰玻璃镜膜,PCB板镀膜等,TFT, Low-E 镀膜,半导体电子
产品化学成分和物理性能:
化学式:Cu
成型工艺:喷涂
密度: >8.4/cm3
纯度: > 99.5%
最大杂质含量 (单位: ppm, 总杂质含量≤ 5000ppm)
最大加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-13MM
直型、狗骨型
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