旋转铜靶 Rotatable Cu target
应用： 制作纯铜膜，用于装饰玻璃镜膜，PCB板镀膜等，TFT, Low-E 镀膜，半导体电子
产品化学成分和物理性能：
化学式：Cu
成型工艺：喷涂
密度: >8.4/cm3
纯度: > 99.5%
最大杂质含量 （单位: ppm， 总杂质含量≤ 5000ppm)
最大加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-13MM
直型、狗骨型
按客户要求定做
旋转铜靶 PCB板镀膜靶材 平面铜靶 铜管靶 高纯铜靶
发布日期 ：2024-02-05 09:49访问：1次发布IP：113.119.122.112编号：4480695
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