旋转氧化铌靶 Rotatable Nb2Ox target
应用：主要用于Low-E玻璃膜系，薄膜太阳能电池电极膜系,TFT,半导体
产品化学成分和物理性能：
化学式：Nb2Ox (x<5)
电阻率（20°C）： ≤ 0.1 Ω. Cm
成型工艺：喷涂
密度: >4.3g/cm3（>95%）
纯度: > 99.95%
最大杂质含量 （单位: ppm， 总杂质含量≤ 500ppm)
最大加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-10MM
直型、狗骨型
按客户要求定做